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高溫柵偏測試HTGB

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產(chǎn)品介紹

試驗(yàn)原理與目的

1.  核心機(jī)制:

a.  在高溫(如150~175℃)下對柵極施加恒定正偏壓(如+20V)或負(fù)偏壓(如-5V),同時保持漏-源極短路(VDS=0V),通過加速電荷注入、界面態(tài)生成及氧化層退化,模擬器件長期工作的極端條件。正偏壓(VGS>0):電子注入柵氧化層,導(dǎo)致閾值電壓(VGS(th))正向漂移。

b.  負(fù)偏壓(VGS<0):空穴注入,閾值電壓負(fù)向漂移,可能引發(fā)漏電流增加。

2.  測試目的:

a.  柵極介電層完整性:檢測氧化層缺陷、界面態(tài)密度(Dit)及電荷陷阱效應(yīng)。

b.  可靠性驗(yàn)證:評估器件在高溫高電場下的壽命、抗老化能力及失效模式。

c.  工藝優(yōu)化:篩選柵氧生長、鈍化工藝(如氮元素?fù)诫s)的優(yōu)劣。


測試方法與流程

1. 測試條件

● 溫度(Tj):通常為150℃或175℃(根據(jù)產(chǎn)品datasheet),需通過熱阻計(jì)算確保結(jié)溫達(dá)標(biāo)。

● 偏置電壓(VGS):正偏壓:典型值+15V~+25V(如SiC MOSFET的VGS_max=20V)。

○ 負(fù)偏壓:典型值-5V~-10V(如-5V用于模擬開關(guān)瞬態(tài)應(yīng)力)。

● 測試時長:標(biāo)準(zhǔn)168小時(7天),車規(guī)級可能延長至1000小時 。

2. 關(guān)鍵步驟

1.  預(yù)處理:消除器件初始遲滯效應(yīng)(如通過短時應(yīng)力循環(huán))。

2.  初始參數(shù)測試:記錄閾值電壓(VGS(th))、柵漏電流(IGSS)、導(dǎo)通電阻(RDS(on))等。

3.  高溫偏置:在恒溫箱內(nèi)施加VGS并保持VDS=0V,持續(xù)監(jiān)控漏電流及溫度漂移。

4.  中間監(jiān)測:在6h、24h、48h等節(jié)點(diǎn)暫停測試,測量參數(shù)變化(動態(tài)評估退化趨勢)。

5.  最終測試與失效判定:對比老化前后參數(shù),若閾值電壓偏移>10%或漏電流超標(biāo)則判定失效 。


核心標(biāo)準(zhǔn)與設(shè)備

1.  國際標(biāo)準(zhǔn):

a.  JESD22-A108(通用高溫柵偏測試方法)。

b.  AQG324(車規(guī)級功率模塊可靠性標(biāo)準(zhǔn),涵蓋HTGB)。

c.  IEC 60747-8(分立器件可靠性評估)。

2.  設(shè)備要求:

a.  溫度控制:±1℃精度,支持結(jié)溫(Tj)模擬或直接測量(如通過熱敏參數(shù)推算)。

b.  電源系統(tǒng):多通道獨(dú)立控制,支持正/負(fù)偏壓切換,漏電流檢測靈敏度≤1nA。

c.  數(shù)據(jù)采集:實(shí)時記錄溫度、電壓、漏電流等參數(shù),支持自動化分析。

高溫柵偏測試HTGB


與其他可靠性試驗(yàn)的關(guān)聯(lián)

● HTRB(高溫反偏):側(cè)重鈍化層及芯片邊緣密封性,檢測離子污染遷移。

● H3TRB(高溫高濕反偏):引入濕度應(yīng)力,評估封裝材料透濕性及界面腐蝕風(fēng)險。

● HTGB的獨(dú)特價值:聚焦柵極介電層與界面態(tài),直接關(guān)聯(lián)器件開關(guān)特性及長期穩(wěn)定性。


服務(wù)熱線

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