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超聲波掃描檢測(cè)

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下一條: CT 斷層掃描
關(guān)鍵詞: C-SAM 聲學(xué)掃描   無損檢測(cè)        

摘要

聲學(xué)掃描顯微鏡是一種非破壞性的檢測(cè)組件的完整性,內(nèi)部結(jié)構(gòu)和材料的內(nèi)部情況的儀器,作為無損檢測(cè)分析中的一種,它可以實(shí)現(xiàn)在不破壞物料電氣能和保持結(jié)構(gòu)完整性的前提下對(duì)物料進(jìn)行檢測(cè)。被廣泛的應(yīng)用在物料檢測(cè)(IQC)、失效分析(FA)、質(zhì)量控制(QC)、質(zhì)量保證及可靠性(QA/REL)、研發(fā)(R&D)等領(lǐng)域。

產(chǎn)品介紹

超聲波掃描顯微鏡(C-SAM)此檢測(cè)為應(yīng)用超聲波與不同密度材料的反射速率及能量不同的特性來進(jìn)行分析, 利用純靜水當(dāng)介質(zhì)傳輸超聲波信號(hào),當(dāng)訊號(hào)遇到不同材料的界面時(shí)會(huì)部分反射及穿透,此種發(fā)射回波強(qiáng)度會(huì)因?yàn)椴牧厦芏炔煌兴町?,來檢驗(yàn)材料內(nèi)部的缺陷并依所接收的信號(hào)變化將之成像。
   是一種非破壞性的檢測(cè)組件的完整性,內(nèi)部結(jié)構(gòu)和材料的內(nèi)部情況的儀器,作為無損檢測(cè)分析中的一種,它可以實(shí)現(xiàn)在不破壞物料電氣能和保持結(jié)構(gòu)完整性的前提下對(duì)物料進(jìn)行檢測(cè)。被廣泛的應(yīng)用在物料檢測(cè)(IQC)、失效分析(FA)、質(zhì)量控制(QC)、質(zhì)量保證及可靠性(QA/REL)、研發(fā)(R&D)等領(lǐng)域。

目的:無損檢測(cè)電子元器件、LED、金屬基板的分層、裂紋等缺陷(裂紋、分層、空洞等);通過圖像對(duì)比度判別材料內(nèi)部聲阻抗差異、確定缺陷形狀和尺寸、確定缺陷方位。  

應(yīng)用范圍:塑料封裝IC、晶片、PCB、LED  
測(cè)試步驟:確認(rèn)樣品類型→選擇頻率探頭→放置測(cè)量裝置中→選擇掃描模式→掃描圖像→缺陷分析

 

檢測(cè)服務(wù)范圍:

1.微電子:塑封IC,陶瓷電容,模片固定,芯片級(jí)封裝,倒裝,印刷電路板(PCB)等
2.微機(jī)械系統(tǒng):粘結(jié)芯片,制造工藝評(píng)估,包裝
3.軍事/航天/汽車電子:高可靠性資格篩選,產(chǎn)品升級(jí)篩選
4.材料:陶瓷,剝離,金屬,塑料,化合物
5.其他:微陣列芯片,生物芯片,微射流技術(shù),傳感器等

 

詳細(xì)參數(shù):
1.超聲波探頭頻率:5M到450M

2.超聲波掃描模式:
  A-Scan(某點(diǎn)掃描)、     B-Scan(塊掃描)、      C-Scan(層掃描)、
 Multi-Scan(多層掃描)、Q-BAM(虛擬橫截面)、T-Scan (穿透式掃描)、
  3-V(3維圖像)、           Tray-Scan(盤掃描)
3.MAX掃描范圍:12.9*12.4英寸
4.MAX分辨率:8192*8192

5.選擇的聲波寬度:0.25納秒到1微秒
6.Z軸分辨率:9納米

 

X射線***技術(shù)(X-Ray)和 反射式掃描聲學(xué)顯微鏡技術(shù) (C-SAM)比較:

檢測(cè)名稱

應(yīng)用優(yōu)勢(shì)

主要原理

X射線***技術(shù) (X-Ray)

以低密度區(qū)為背景,觀察材料的高密度區(qū)的密度異常點(diǎn),主要用來判定引線斷裂、焊點(diǎn)、空洞等檢測(cè)分析手段。

***X光被樣品局部吸收后成像的異常圖片。

反射式掃描聲學(xué)顯微鏡技術(shù) (C-SAM)

以高密度區(qū)為背景,觀察材料內(nèi)部空隙或低密度區(qū),主要用來判定封裝內(nèi)的空隙和芯片粘接、空洞等失效檢測(cè)分析。

超聲波頻率(5-100Mhz)遇到空隙受阻發(fā)射。
 
 

 

 

 C-SAM 聲學(xué)掃描


超聲波掃描圖片:

C-SAM 聲學(xué)掃描

C-SAM 聲學(xué)掃描

 


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