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斷層無(wú)損檢測(cè)， 斷層掃描檢測(cè)(CT Testing)
三維X射線掃描是以非破壞性X射線技術(shù)（簡(jiǎn)稱CT），將待測(cè)物體做360°自轉(zhuǎn)，通過(guò)單一軸面的射線穿透被測(cè)物體，根據(jù)被測(cè)物體各部分對(duì)射線的吸收與透射率不同，收集每個(gè)角度的穿透圖像，之后利用電腦運(yùn)算重構(gòu)出待測(cè)物體的實(shí)體圖像。
定義：CT掃描是采用機(jī)算計(jì)斷層掃描技術(shù)對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行無(wú)損檢測(cè) （NDT）和無(wú)損評(píng)價(jià)（NDE），利用斷層成像技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品無(wú)損可視化測(cè)量、組裝瑕疵或材料分析。
目的：CT掃描取代傳統(tǒng)的破壞性監(jiān)測(cè)和分析，任何方向上的非破壞性切片和成像，不受周圍細(xì)節(jié)特征的遮擋，可直接獲得目標(biāo)特征的空間位置、形狀及尺寸信息。
用途范圍 ：適用于BGA、CSP、Flip chip的檢測(cè)；PCB板焊接情況檢測(cè)；IC封裝檢測(cè)；電容、電阻等元器件；金屬材料、介質(zhì)材料的內(nèi)部缺陷；輕質(zhì)材料的內(nèi)部結(jié)構(gòu)以及組件；電熱管、珍珠、精密器件等，是進(jìn)行產(chǎn)品研究、失效分析、高可靠篩選、質(zhì)量評(píng)價(jià)、改進(jìn)工藝等工作的有效手段。
技術(shù)指標(biāo)：
幾何放大：0-2400X
系統(tǒng)放大：6000X
電子槍電壓：160KV
電子槍電流：500uA
電子槍功率：20W
CT樣品半徑：半徑為75mm

斷層無(wú)損檢測(cè)_江蘇靠譜的CT斷層掃描檢測(cè)推薦， 公司始終奉行“客戶滿意和信賴是我們永恒的追求”的企業(yè)宗旨，一如既往的推動(dòng)CT斷層掃描檢測(cè)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，已在技術(shù)合作行業(yè)取得了優(yōu)異的成果。蘇州工業(yè)園區(qū)浩高電子科技有限公司將在科學(xué)發(fā)展觀的指引下，按照發(fā)展戰(zhàn)略，奮勇開拓、持續(xù)創(chuàng)新，進(jìn)一步提升度、美譽(yù)度和忠誠(chéng)度，向CT斷層掃描檢測(cè)企業(yè)奮進(jìn)。